冷場掃描電鏡與熱場掃描電鏡的區(qū)別主要體現(xiàn)在以下幾個方面：

適用范圍：冷場發(fā)射掃描電鏡主要應用于材料科學和化學領域，而熱場發(fā)射掃描電鏡則廣泛應用于物理學、材料科學、能源科學技術(shù)等領域。因此，熱場發(fā)射掃描電鏡的使用范圍相對更廣。

技術(shù)指標：冷場發(fā)射掃描電鏡的分辨率在15kV時可以達到1.0nm，放大倍率范圍在×20到×800,000，加速電壓在0.5到30kV之間。而熱場發(fā)射掃描電鏡的放大倍數(shù)通常在35到90萬倍之間，分辨率在15kV時也可以達到1.0nm，加速電壓范圍在0.2kV到30kV之間。此外，熱場發(fā)射掃描電鏡的能譜探測元素范圍更廣，能量分辨率也更高。

主要功能：冷場發(fā)射掃描電鏡主要側(cè)重于超顯微、形貌與成分分析相結(jié)合的功能。而熱場發(fā)射掃描電鏡則更多地應用于物理學、材料科學和能源科學技術(shù)等領域的研究。

環(huán)境要求：冷場發(fā)射掃描電鏡對真空條件的要求較高，束流不穩(wěn)定，發(fā)射體使用壽命較短，需要定時對針尖進行清洗，因此其應用范圍相對有限。而熱場發(fā)射掃描電鏡則可以連續(xù)工作較長時間，并且可以與多種附件搭配實現(xiàn)綜合分析，因此其應用更為廣泛。

維護成本：冷場發(fā)射掃描電鏡的維護成本相對較低，維護要求也不算高。而熱場發(fā)射掃描電鏡的維護成本相對較高，維護要求也更高。

綜上所述，冷場掃描電鏡與熱場掃描電鏡在適用范圍、技術(shù)指標、主要功能、環(huán)境要求以及維護成本等方面存在明顯的區(qū)別。具體選擇哪種類型的掃描電鏡需要根據(jù)研究需求和實驗條件進行綜合考慮。