SEM掃描電鏡具有多種工作模式，以滿足不同樣品和分析需求。以下是常見的幾種工作模式及其特點(diǎn)：

高真空模式：

基本工作模式，樣品和檢測(cè)器被置于高真空環(huán)境中。

適用于大多數(shù)樣品觀察和分析，尤其是固態(tài)樣品。

提供清晰的圖像和較高的分辨率。

低真空模式：

允許在較高的氣壓下進(jìn)行觀察，無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行涂覆或處理。

適用于非導(dǎo)電樣品、生物樣品、濕潤(rùn)樣品和松散樣品等。

提供更高的樣品適應(yīng)性，并減少電子束與氣體相互作用產(chǎn)生的充電效應(yīng)。

透射電子顯微鏡模式（TEM模式）：

某些SEM設(shè)備具備此模式，允許使用透射電子探測(cè)器進(jìn)行樣品的透射電子顯微觀察。

提供更高的分辨率和更詳細(xì)的樣品內(nèi)部信息，適用于納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)和成分分析。

掃描透射電子顯微鏡模式（STEM模式）：

將電子束掃描到樣品上，同時(shí)收集透射電子的散射信號(hào)。

用于樣品表面的高分辨率成像和元素分析，在高分辨率成像和原子級(jí)結(jié)構(gòu)分析方面具有很高的能力。

分析模式：

SEM可以與各種分析技術(shù)結(jié)合使用，如能量色散X射線光譜（EDS）和電子背散射衍射（EBSD）。

用于獲取樣品的化學(xué)成分、結(jié)晶結(jié)構(gòu)、晶格取向等信息。

成像模式：

電子束從電子槍發(fā)射出來(lái)后，經(jīng)過(guò)聚焦系統(tǒng)聚焦到一個(gè)小的點(diǎn)上，這個(gè)點(diǎn)稱為激發(fā)點(diǎn)。

電子束從激發(fā)點(diǎn)掃描樣品的表面，與樣品相互作用后產(chǎn)生的信號(hào)被探測(cè)器捕捉到，從而獲取樣品表面的形貌信息。

具體的成像模式：

次外殼成像模式（SEI）：研究樣品表面形貌特征，如表面粗糙度、形態(tài)等。

高角度底層成像模式（BSE）：觀察帶有原子序數(shù)反比于信號(hào)強(qiáng)度的圖像，用于研究材料表面顯微組織結(jié)構(gòu)。

散射電子成像模式（SED）：顯示材料組織結(jié)構(gòu)、缺陷、晶界面等信息。

反射電子成像模式（RSE）：改變電子束的入射角度，得到自然的反相成像，用于材料表面缺陷的直接觀測(cè)。

每種工作模式具有不同的優(yōu)勢(shì)和適用范圍，具體的選擇應(yīng)根據(jù)樣品類型、所需分辨率、分析目的和設(shè)備功能來(lái)確定。在使用掃描電鏡之前，建議參考SEM掃描電鏡制造商的指南和技術(shù)規(guī)格，以了解具體設(shè)備的工作模式和操作方法。